Thin Film Materials and Preparation Technologies

课程简介

真空技术在薄膜沉积中的应用：不同类型的真空泵，如旋转泵、罗茨泵、扩散泵、涡轮分子泵和低温泵的工作原理。真空测量的概念和方法，包括电容式真空计、皮拉尼真空计和彭宁真空计。各种真空室的设计。 薄膜沉积方法：物理气相沉积技术，热蒸发、电子束蒸发、激光溅射和阴极弧沉积。直流溅射、射频溅射、磁控溅射、反应溅射和离子束溅射。化学气相沉积（CVD）技术：常规CVD、等离子体增强CVD和原子层沉积。 各种类型的薄膜及其物理特性：微观结构薄膜，如单晶薄膜、多晶薄膜、纳米晶薄膜、非晶薄膜和亚稳态薄膜。表面形貌。薄膜密度和化学计量比。薄膜应力。基底附着力。 薄膜特性的表征：薄膜的机械、电气、热、化学和光学特性。 薄膜技术的应用：透明导电电极、薄膜器件如晶体管、传感器和太阳能电池、用于电信应用的电磁干扰屏蔽和射频透明涂层、光学/装饰性涂层的硬透明保护涂层以及塑料/聚合物上的涂层。

学习目标

本课程提供现代薄膜合成的基本知识。详细介绍了工业加工中使用的各种薄膜沉积技术。解释了介电薄膜技术的一些重要工业应用。

先修要求

无

教学模式

讲授：讲解薄膜和纳米材料生长及材料参数的基本概念，讨论不同薄膜技术的工作原理及其特点。 辅导：通过更多实例进一步阐述讲授内容，帮助学生理解相关概念。